Nitridschicht

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LOCOS-Prozess — LOCOS, kurz für englisch Local Oxidation of Silicon (dt. »lokale Oxidation von Silicium«, ist in der Halbleitertechnik ein Verfahren zur elektrischen Isolation von Bauelementen (meist Transistoren). Dafür wird der Silicium Wafer an… … Deutsch Wikipedia
LOCOS — LOCOS, kurz für Local Oxidation of Silicon (dt. »lokale Oxidation von Silicium«, ist in der Halbleitertechnik ein Verfahren zur elektrischen Isolation von Bauelementen (meist Transistoren). Dafür wird der Silicium Wafer an ausgewählten Stellen… … Deutsch Wikipedia
Grabenisolation — Die Grabenisolation (englisch shallow trench isolation, STI, auch box isolation technique) ist ein Verfahren der Halbleitertechnik zur elektrischen Isolation einzelner Bauelemente (hauptsächlich MIS Feldeffekttransistoren) auf integrierten… … Deutsch Wikipedia

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